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国产22纳米光刻机治不了咱们的“芯”病!

2018-12-03 16:02:03 中国经济网

11月29日,中科院研发的“超分辨光刻配备”通过检验。音讯传着传着,就成了谣言——《国产光刻机伟大打破,国产芯片白菜化在即》《打破荷兰技能封闭,弯道超车》《厉害了我的国,新式光刻机将打破“芯片荒”》……

笔者正好去中科院光电所旁听此次检验会,写了报导,还算熟悉,无法苟同一些漫无边际的瞎扯。

中科院研发的这种光刻机不能(像一些网媒说的)用来光刻CPU。它的含义是用廉价光源完成较高的分辨率,用于一些特殊制造场景,很经济。

先解说下:光刻机不光是制造芯片用。一张平面(不论硅片还是什么材料)想刻出繁复的图案,都可以用光刻——就像照相,图画投在感光底片上,蚀掉一部分。半个多世纪前,美国人用这个原理“印刷”电路,然后有了大规模集成电路——芯片。

为了节能和省硅料,芯片越做越小,逼得光刻机越做越极点。线条细到必定程度,投影就含糊了。要清晰投影,线条粗细不能低于光波长的一半。顶尖光刻机用波长13.5纳米的极紫外光源,好刻10纳米以下的线条。

但稳定的、大功率的极紫外光源很难造,一个得3000万元人民币。要求工作环境严苛,配合的光学和机械部件又极点精细,所以荷兰的ASML公司独家独占极紫外光刻机,创造了“一台卖一亿美金”的神话。

十几年前,国际上开端对外表等离子体(surface plasma,SP)光刻法感兴趣。中科院光电所从2003年开端研讨,是较早出成果的一个团队。所谓SP,光电所的科学家杨勇向笔者解说:拿一块金属片和非金属片亲密接触,界面上有一些乱蹦的电子;光投影在金属上,这些电子就有序地震荡,产生波长几十纳米的电磁波,可用来光刻。

但这种电磁波很弱,所以光刻胶得凑近了,才干刻出来。且加工精度与ASML的光刻机没法比。刻几十纳米级的芯片是没法用SP光刻机的,至少以现在的技能不能。

检验会上也有记者问:该光刻设备能不能刻芯片,打破国外独占?光电所专家回答说,用于芯片需求攻克一系列技能难题,间隔还很悠远。

总归,中科院的22纳米分辨率光刻机跟ASML独占的光刻机不是一回事,说前者弯道超车,就好像说中国出了个竞走名即将逾越博尔特。

各家媒体第一时间报出的信息,就我看到的还算中规中矩。但后来网媒添油加醋,搞到离谱。有些传播者为吸引眼球、挣钱,独爱制造“自嗨文”和“吓尿体”。听到国产科技成就先往大里吹,驴吹成马,马吹成骆驼,好卖个骆驼价。

这种“科技报导”是满足虚荣心的伪新闻。行家听了眉头一紧,避之大吉。也难怪许多科学家怕上新闻。

发布:xiuyue

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